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各种应用取决于快速均匀镀膜
By Carrol McCormick
镍杂志, 2008
年3月 -- 加拿大安大略米德兰Weber制造技术公司使用镍气相沉积法(NVD)将镍均匀地镀到纳米粉上。可对小至几十微米的纳米颗粒进行镀镍，镀镍厚度可以控制在一个较宽的范围内（例如，按重量的10-80%）。
镀镍粉用于屏蔽电子元件的电磁干扰、镀镍研磨剂、切割工具和热弧喷涂层。
镍气相沉积法将镍粉和一氧化碳变成羰基镍气体。 在粉末涂镀设备中，该气体与基材在温度为130 -170ºC条件下接触时还原为镍。 一氧化碳返回该系统再使用。
镍汽相沉积厂经理Alan Horst说：“我们可方便地大批量对各种粉末进行涂镀”。
该公司已测试性涂镀了铝粉和石墨粉。其研发涂镀机3小时内可将六千克的镍镀在30千克的基材上。一个全尺寸的生产装置可同时镀大约150千克的基材。由于该厂每年可生产150,000千克镍，因此如果需求增加，该公司可将更多的涂镀机投入生产。
除了镀层均匀外，镍气相沉积法比电镀大约快20倍。此外，镀后不需要烘干： 粉末在镀后立即可用。
Carroll McCormick is a Montreal-based freelance writer.
Photos: WEBER MANUFACTURING TECHNOLOGIES INC.
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